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大氣等離子清洗設備

產品功能

在大氣的環(huán)境下,快速清除有機污染物達到元件表面清潔及改善的功能,有效提升元件封裝,黏著,印刷之可靠度。


詳細介紹

產品特點

多項專利設計;

等離子效率高、處理速度快;

處理均勻性佳;

電極最小化設計,可處理下置產品;

操作簡單,可調整電漿功率、處理距離;

可整合于in Line產線 ;

處理金屬基板材質,不會造成元件損傷。

應用產業(yè)

液晶面板產業(yè):STN、 TFT、 OLED 、 LTPS;

觸控面板;

光電元件、電子元件封裝貼合前清潔;

LED封裝、PCB 產業(yè);

太陽能產業(yè);

Touch Panel 制程;

(1) Cover lens coating 制程前清潔;

(2) Touch sensor PR 制程前清潔;

(3)貼合制程前清潔。

產品規(guī)格

項目

SAP006

電漿形式

DBD type

處理范圍

最大2500 mm

制程氣體

N2、CDA

電源

AC 200V-220V/50HZ-60HZ,3 phase

功率

20-50 kHZ/1kW 20 kW

清潔高度

1-5 mm(依產品性質而訂)


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控制部

電源

照射部


項目

Remote Type

SAP006R(G3)

SAP006R(G5)

SAP006R(G8)

1

電漿寬度

550mm

1100mm

2200mm

2

電漿頭尺寸

900*210*300mm

1450*210*300mm

2550*210*300mm

3

重量

25kg(55.11lbs)

50kg(110.23lbs)

100kg(220.46lbs)

4

需求電源

220V,60Hz,1phase,

3wire,15A,地線<5Ω


220V,60Hz,

1phase,3wire,30A,地線<5Ω

220V,60Hz,1phase,

3wire,60A,地線<5Ω

5

電漿輸出功率

1600~1800W

3200~3500W

6500~7000W

6

電漿有效距離

1~3mm(建議2mm)

7

進氣接頭

12*8mm Connector

8

N2壓力

5.5±0.5kg/cm2

9

N2流量

385L/min

770L/min

1540L/min

10

控制界面

Display and Button


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